(22 ago) – Arriva nel campo delle nanotecnologie una nuova applicazione della tecnica detta “bagnamento litograficamente controllato” (Lcw, dall’inglese lithographically controlled wetting), sviluppata e brevettata dall’Istituto per lo studio dei materiali nanostrutturati del Consiglio nazionale delle ricerche (Ismn-Cnr) di Bologna. L’Lcw può essere applicata a qualsiasi composto materiale solubile, permettendo la formazione di strutture micrometriche e nanometriche organizzate su larga area, senza bisogno di strumenti né di infrastrutture complesse. Il protocollo è stato pubblicato su Nature Protocols, ottenendo la copertina del numero di settembre. “La novità di questa tecnica consiste nella non necessità di interazione specifica tra le molecole del composto e la superficie. In pratica, è possibile usarla su qualsiasi materiale solubile e per diverse applicazioni tecnologiche”, specifica Massimiliano Cavallini dell’Ismn- Cnr. “L’Lcw ha permesso di sfruttare materiali che sarebbero inutilizzabili con le tecnologie consolidate, in settori come la fabbricazione dei transistori organici ambipolari, basati su nano strutture, la realizzazione di elementi di memoria simili a cd miniaturizzati e la disposizione controllata di molecole biologiche per sensori e crescita cellulare”. L’utilizzo di stampi facilmente realizzati con tecniche dette di rapid protyping e replica molding rende il costo di tale tecnologia molto inferiore a quello delle tecniche litrografiche di tipo top-down. (Caf)
